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集成电路设计产物首轮流片奖励

  一、申报条件

  1.申报单元为在京挂号注册、具有自力法人资格、从事集成电路设计营业的工业和软件信息服务业企业。

  2.申报单元在2022年7月1日至2023年3月31日内开展多项目晶圆(MPW)或工程产物首轮流片(全掩膜),且产物流片条约已执行完毕,并允许在京开展gai产物工业化事情。

  二、支持方式和尺度

  1.对开展多项目晶圆(MPW)首轮流片的企业,an照不凌驾产物流片用度的50%予以奖励,单个企业奖励金额最高不凌驾300万元。

  2.对开展新型智能盘算芯片、新型存储器、开源处置赏罚器、硅光芯片等前沿领域中的重点工程产物首轮流片(全掩膜)的企业,an不凌驾产物流片用度的50%予以奖励,单个企业支持最高不凌驾 2000万元;对开展其他工程产物首轮流片(全掩膜)的企业,an不凌驾产物流片用度的30%予以奖励,单个企业奖励额最高不凌驾1000万元。

  3.对开展在京代工的工程产物首轮流片(全掩膜)的企业,an不凌驾产物流片用度的50%予以奖励,单个企业奖励金额最高不凌驾2000万元。

  若有多个产物切合多项申报条件可同时申报,单个企业奖励金额最高不凌驾3000万元。

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